拋光機的拋（pāo）光速率低解決這個矛盾的最好的（de）辦法就（jiù）是把拋光分為兩個階段進行。

　　粗拋目的是去除磨光損（sǔn）傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，粗（cū）拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應當（dāng）盡（jìn）可能小;其次是精拋（pāo）(或稱終（zhōng）拋)，其目的是去除粗拋（pāo）產生的（de）表層損傷，使（shǐ）拋光損傷減到最小。拋（pāo）光機拋光時，試樣磨麵與拋光（guāng）盤應絕對平行並均勻地輕壓（yā）在（zài）拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓（yā）力太大（dà）而產（chǎn）生新磨痕。

　　同時，還應（yīng）使試樣自轉並沿轉盤半徑方向來回移（yí）動，以避免拋光織物（wù）局部磨損太（tài）快在拋光（guāng）過程中要不斷添加微粉懸浮（fú）液，使拋光織物（wù）保持一定濕度。濕度太大會減弱拋（pāo）光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜（zá）物及鑄（zhù）鐵中石墨相產生“曳尾”現象;濕度（dù）太（tài）小（xiǎo）時，由於摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨麵失去光（guāng）澤，甚至出（chū）現黑斑，輕合金則（zé）會拋傷（shāng）表（biǎo）麵。

　　當然，我們為了達到粗拋的目的，要求（qiú）轉盤轉（zhuǎn）速較低，最好不要超過600r/min;拋光時間應當比去掉劃痕所（suǒ）需的時間（jiān）長（zhǎng）些，因為還要去掉變（biàn）形層（céng）。粗拋（pāo）後磨麵光滑，但黯（àn）淡無（wú）光，在顯微鏡下觀察有均勻細致（zhì）的磨痕，有待精拋（pāo）消除。